Hanki oma profiili
Viittaukset
Kaikki | 2019 lähtien | |
---|---|---|
Sitaatit | 1287 | 682 |
h-indeksi | 20 | 15 |
i10-indeksi | 24 | 19 |
Yleisessä käytössä
Näytä kaikki3 artikkelia
1 artikkeli
käytettävissä
ei käytettävissä
Perustuu rahoitusehtoihin
Muut kirjoittajat
- Daniel GallProfessor, Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic InstituteVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa rpi.edu
- R. Joseph KlineNational Institute of Standards and TechnologyVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa nist.gov
- Daniel SundayNational Insitute of Standards and TechnologyVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa nist.gov
- Ferdows Zahid (ORCID:0000-0001-93...Independent University, Bangladesh (IUB)Vahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa iub.edu.bd
- Ruopeng DengProcess Development Engineer, Lam ResearchVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa lamresearch.com
- Sophie CazottesMateis - INSA LyonVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa insa-lyon.fr
- Gerhard DehmDirector, Max-Planck-Institut für EisenforschungVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa mpie.de
- David J. MichalakIntel CorporationVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa intel.com
- K. S. NarayanJawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific ResearchVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa jncasr.ac.in
- Dhritiman GuptaAssociate Professor, VIT UniversityVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa vit.ac.in
- Nikhil DoleSenior Panel Process Engineer, AppleVahvistettu sähköpostiosoite verkkotunnuksessa apple.com